HM-200DF 大型フラット試料用アウトガス捕集装置

HM-200DF 
大型フラット試料用アウトガス捕集装置

 

 
概要
大型電子デバイス等からの揮発性有機化合物の捕集に最適。
 
特長
チャンバーサイズ:200(W)×200(D)×20(H)mm 
大型のフラットサンプルに対応。
 
室温~230℃での捕集が可能。
 
ガラス天板(特別オプション)を用いることで、UV照射時アウトガス捕集も可能。

試料加熱部

概要
大型電子デバイス等からの揮発性有機化合物の捕集に最適。
 
特長
チャンバーサイズ:200(W)×200(D)×20(H)mm 
大型のフラットサンプルに対応。
 
室温~230℃での捕集が可能。
 
ガラス天板(特別オプション)を用いることで、UV照射時アウトガス捕集も可能。
 

  
 
 
試料加熱部

装置仕様

装置仕様

  HM-200DF
 試料容器数   1個
 試料容器材質   ステンレス製(内面:不活性処理)
 試料容器サイズ   200(W)×200(D)×20(H)mm
 オーブン材質   アルミニューム製
 オーブン加熱方式   抵抗加熱方式
 オーブン加熱温度   室温~230℃
 パージガスの種類   通常ヘリウム又は窒素
 寸法・質量   オーブン:400(W)×300(H)×400(D)mm ・27Kg(容器込み) 
空冷ユニット:302(W)×187(H)×302(D)mm
コントローラ:250(W)×230(H)×500(D)mm ・11Kg
 電源 A200~240V,8A

 
 

  HM-200DF
 試料容器数
 1個
 試料容器材質
 ステンレス製(内面:不活性処理)
 試料容器サイズ
 200(W)×200(D)×20(H)mm
 オーブン材質
 アルミニューム製
 オーブン加熱方式
 抵抗加熱方式
 オーブン加熱温度
 室温~230℃
 パージガスの種類
 通常ヘリウム又は窒素
 水冷バルブユニット
 水道水、又は冷却水循環装置使用
 配管内パージ
 空気、又は窒素を使用
 寸 法・質 量
  
オーブン:400(W)×300(H)×400(D)mm・27Kg(容器込み)
空冷ユニット:302(W)×187(H)×302(D)mm 
コントローラ:250(W)×230(H)×500(D)mm・11Kg
 電 源
 AC200~240V/A

アウトガス捕集装置

 
 パーツ用
 
フラットディスク用
 
シリコンウエハ用
 
エアーサンプラー